菲涅尔波带片
超细结构，高纵横比，可定制化多层次
- 品牌： NTT-AT
- 产地： 日本
- 型号： AP08Q
特点
极高的x射线辐照耐久性，
高分辨率，高对比度。
尖锐的吸收体图案，高信噪比和低缺陷成像
可根据特殊x光能量、光学设置和聚焦/图像性能要求进行定制
型号参数
Minimum zone width (outer most zone) | 25nm |
Maximum diameter | 5mm |
Membrane material | SiN, SiC |
Membrane thickness | 0.2-2µm |
Absorber material | Ta |
Absorber thickness | 0.1-2µm |
Si substrate shape | 10mm square |
Si substrate thickness | 1mm |
Model | Aspect Ratio | Membrane Material | Membrane Thickness(µm) | ΔRn(nm) | Diameter | Total Zone | Ta Thickness (nm) |
FZP-S38/84 | 4.2 | SiN | 0.15 | 38 | 84 | 550 | 160 |
FZP-S50/80 | 5 | SiN | 0.2 | 50 | 80 | 400 | 250 |
FZP-S40/155 | 5 | SiN | 2 | 40 | 155 | 970 | 200 |
FZP-S50/330 | 8 | SiN | 1 | 50 | 330 | 1650 | 400 |
FZP-S86/416 | 8 | SiN | 2 | 86 | 416 | 1200 | 700 |
FZP-100/155 | 8 | SiN | 2 | 100 | 155 | 388 | 800 |
FZP-173/208 | 5.8 | SiN | 2 | 173 | 208 | 300 | 1000 |
FZP-200/206 | 8 | SiN | 2 | 200 | 206 | 255 | 1600 |
FZP-C234/2500 | 0.6 | SiC | 0.2 | 234 | 2500 | 2670 | 150 |
*Rn：Outermost Zone Width
应用
适用于x射线显微镜、EUV显微镜、x射线微束辐照、同步辐射束监测器等各种x射线应用。
下限区域宽度可达25纳米。
产品案例
超细结构
阶梯式（Kinoform）
高纵横比
